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丹普超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)丹普超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)丹普超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)

超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)

采用無盲點(diǎn)鍍膜技術(shù)，支點(diǎn)可以自動切換，雙真空室，內(nèi)外表面鍍制TiN-GIMS，并且配置矩形和柱狀磁控濺射靶和氣體離子源...
  • 丹普超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
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  • 詳細(xì)介紹
1、極限真空度 5.0*10-5Pa
2、無盲點(diǎn)鍍膜技術(shù)
3、支點(diǎn)自動切換技術(shù)
4、雙真空室
5、內(nèi)外表面鍍制TiN-GIMS
6、配置矩形和柱狀磁控濺射靶
7、配置氣體離子源
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